光科

旋转涂覆旋转涂膜是一种用于将均匀薄膜沉积到平面基板上的程序。 通常在低速旋转或根本不旋转的基材中心涂上少量涂层材料。 然后以高达 10,000 rpm 的速度旋...

光刻在集成电路制造中，光刻或光学光刻是一个通用术语，指的是使用光在基板（例如硅晶片）上生成适当材料的精细图案薄膜的技术，以在随后的蚀刻、沉积、 或植...

刻蚀蚀刻用于微加工，以在制造过程中从晶片表面化学去除层。 蚀刻是一个极其重要的工艺模块，每个晶圆在完成之前都经过许多蚀刻步骤。对于许多蚀刻步骤，部分...

光刻胶光致抗蚀剂（也简称为抗蚀剂）是一种光敏材料，用于多种工艺，例如光刻和光刻，以在表面上形成图案涂层。 这个过程在电子工业中至关重要。该过程首先在...

简介量子光刻技术是光刻技术的一种，它利用了光子的非经典特性，如量子纠缠，以达到比普通经典光刻技术更高的性能。量子光刻技术与量子成像、量子计量和量子...

原子级精密制造原子级精密制造(APM)是纳米技术的实验应用，其中单个原子和分子可以精确定位，以形成完全没有缺陷的产品，直至原子水平。该技术目前在量子计算...

离子束光刻离子束光刻是一种以图案化方式在整个表面上扫描聚焦的离子束以创建非常小的结构（例如集成电路或其他纳米结构）的实践。已经发现离子束光刻对于在...

电子束光刻电子束光刻（通常缩写为电子束光刻、EBL）是一种扫描电子聚焦束以在被称为抗蚀剂（曝光）的电子敏感膜覆盖的表面上绘制自定义形状的实践。电子束改...

浸笔式纳米光刻浸笔式纳米光刻（DPN）是一种扫描探针光刻技术，其中原子力显微镜（AFM）尖端用于使用多种墨水在一系列物质上直接创建图案。该技术的一个常见...

无掩模光刻无掩模光刻利用直接将信息转移到衬底上的方法，而无需利用中间静态掩模，即直接复制的光掩模。在微光刻中，辐射转移通常将时间常数掩模的图像投射...

什么是量子成像量子成像，是一种利用光场的二阶或高阶关联获得物体信息的成像方法。量子成像属于非定域成像，其概念起源于20世纪50年代的HB-T实验。继纠缠光...

纳米化学纳米化学是化学和纳米科学的结合。纳米化学与结构单元的合成有关，后者取决于尺寸、表面、形状和缺陷性质。纳米化学被用于化学、材料和物理、科学以...

什么是纳米光刻纳米光刻是纳米技术中涉及纳米级结构工程（蚀刻、书写、印刷）的技术领域中一个不断发展的领域。在希腊语中，该单词可分为三个部分：“ nano”表...

微机电系统MEMS微机电系统是机械部件、传感器、致动器、电子电路中的一个硅衬底、玻璃衬底上的有机材料的顶部微细加工技术是指集成由设备。根据工艺限制和材...

微接触印刷微接触印刷（mCP）是一种构造纳米结构的方法，有望成为下一代印刷电子技术的核心技术。1993 A.Kumar，通过GMWhitesides结束硫醇基团的金与具有烷硫...

光刻技术光刻技术（英文：photolithography）通过将涂有光敏材料的材料的表面以一定图案（也称为图案曝光或按图像曝光）曝光来曝光已曝光和未曝光的区域。生...

纳米压印光刻纳米压印光刻技术是目前正在开发的一种用于半导体的精细图案转移技术。常规的图案创建缩小投影曝光装置（步进器）已被使用，小型化由于，极紫外...

固体浸没透镜固体浸没透镜（SIL）是一种通过向样品中填充高折射率介质来实现比普通透镜更高的放大倍率和更高的数值孔径的透镜。SIL最初是为了提高光学显微镜...

极紫外光刻极紫外光刻技术（简称：EUV光刻或EUVL）是一种下一代光刻技术，可以用波长为13.5 nm的极紫外光进行曝光。极紫外在不久的将来2020到英特尔，三星为7...

纳米技术纳米技术是纳米材料技术的缩写，是指在规模为（1纳米= 10 -9  米区域即）原子或分子上，自由地控制技术，以这种规模开发新材料，或以这种规模开发设...

MuTracx简介MuTracx 是一个来自荷兰的喷墨打印设备生产商。MuTracx 开发了数字喷墨打印技术，替代传统光刻，完全基于喷墨技术的数字印刷机具有自动化程度高和...

企业成就 光科电器有限公司处于中国温州，创建于一九八七年，公司董事长兼总经理包伟光先生艰苦创业，亲手设计各种款式新颖、功能齐全的剃须刀，成为国内剃须...